[ Retour index ancien forum | Sommaire / retour index général | | ]

Re: suréchantillonage et raccprdement de champs en optique, non je ne vois pas

De: E. Bigler
Date: 10 Jun 2002
Time: 14:42:27
Remote Name: belenos.ens2m.fr

Commentaires

Je ne vois pas pour commencer de parallèle évident pour l'instant entre les deux choses. Mais çà va venir, voyez plus bas. Le problème du raccordement de champ tels que je le comprends dans les systèmes d'analyse d'image à tambour ou à balayage c'est qu'on n'oblige plus comme dans un agrandisseur l'optique à couvrir tout le champ de l'image finale.

Imaginez que vous passiez contrat avec votre fournisseur favori d'optiques d'agrandisseur et que vous disiez : je veux un autre 150 extra-super-bon encore meilleur que l'hyper-APO-extra-chromatique, celui que j'ai déjà (dès que je le sors de sa boîte, le regarder lui fait déjà perdre quelques paires de lignes : dame c'est comme un cheval de course ces "bêtes"-là ;-);-). Le fabricant dit : impossible c'est déjà super-optimisé, à moins que vous ne m'enleviez une contrainte de conception.

Alors vous dites : OK je veux un 150 mais je ne lui demande que de couvrir le 6x6 et pas le 4"x5". Je tirerai mes images par bouts et je fais mon affaire de les raccorder (c'est pour de la photogravure, il y a des bons softs maintenant, etc... air connu). Alors peut-être le fabricant va-t-il vous sortir quelque chose qui n'existe pas sur le marché, un 150 d'agrandisseur à faible champ mais qui atteint la limite de diffraction à f/5.6 au lieu de f/11 au prix d'une réduction de cercle de couverture draconienne. Là certainement vous allez faire des images fantastiques si l'optique de prise de vue le permet.

Je pense que les performance des scanners sont un peu basées sur cet avantage de faire un raccordement de champs en enlevant une contrainte de conception sur le cercle de couverture.

Pour fabriquer les masques de photolothographie avec des traits de 0,1 microns ou moins sur des champs de plus de 100 mm de côté on procède par raccordement de champs par combinaison d'une déflexion électronique du faisceau d'écriture et une translation mécanique de très haute performance. Aucun système optique en lumière visible, UV, R-X ou électrons avec un transfert optique de type classique ne peut fabriquer un tel objet en une seul passe. Si on raccorde des champs, c'est une autre affaire. On tombe sur un problème de temps d'éxécution. Peu importe si c'est pour faire un masque-maître. Mais attention, les gars de la production ils nevous laisseront pas proposer d'écrire sur les tranches de silicium par balayage !!! eux il veulent du rendement. faut que çà flashe, un flash par puce et 10000 puces par tranche. Le lien avec le suréchantillonage est donc peut-être là.

On peut agrandir les pixels avant des les passer au détecteur numérique, ce qui permet de suréchantillonner si on veut sachant qu'on perd sur le champ maison s'en fiche si on a tout le temps devant soi. Une bonne méthode déjà employée pourla fabrication des masques de micro-électronique, qui soit dit en passant ne sont pas des images à modelé continu.

Et si on regarde la façon dont l'oeil analyse une image, de fait il y a un balayage avec raccordement de champs qui se produit. La minute d'arc de résolution, limitée par la diffraction (rappelons le) n'est obtenu que dans le champ de vision centrale. Pour le reste l'oeil balaye. D'où la notion de 'lecture d'image' qui est si importante esthétiquement du point de vue de la composition. L'oeil ne fait pas l'acquisistion de l'image comme un dos "one-shot". Il balaye. à son gré et même pas comme une barrete uni-ligne qui se déplace dans le plan focal d'une 4"x5".

Vous êtes sur le forum de discussion du site www.galerie-photo.com
Le forum actuel est ici : http://www.galerie-photo.info/forum